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四氟化氙

四氟化氙,13709-61-0,结构式
四氟化氙
  • CAS号:13709-61-0
  • 英文名:Xenon tetrafluoride
  • 中文名:四氟化氙
  • CBNumber:CB4731128
  • 分子式:F2Xe
  • 分子量:169.29
  • MOL File:13709-61-0.mol
四氟化氙化学性质
  • 熔点 :129 °C(lit.)
  • 沸点 :115.73°C (estimate)
  • 密度 :4.32 g/mL at 25 °C(lit.)
  • 蒸气压 :3.8 mm Hg ( 25 °C)
  • 溶解度 :reacts with H2O
  • 形态 :colorless monoclinic crystals
  • 颜色 :colorless monoclinic crystals, crystalline
  • 水溶解性 :reacts violently with H2O, forming Xe, O2, HF, and XeO3 [DOU83]
安全信息
  • 危险品标志 :O,T+
  • 危险类别码 :8-25-26-34
  • 安全说明 :17-26-28-36/37/39-45
  • 危险品运输编号 :UN 3087 5.1/PG 2
  • WGK Germany :3
  • RTECS号 :ZE1294166
  • F :1-10
  • 危险等级 :5.1
  • 包装类别 :I

四氟化氙性质、用途与生产工艺

  • 概述 无色透明四方晶体。相对密度4.32(25/4℃),熔点129℃,固体蒸气压为4.6×133.322Pa(25℃)。蒸气也是无色的,有恶臭。易溶于无水氟化氢、氟化亚硝酰•三(氟化氢)和五氟化碘,但不发生电离。能被氢还原生成氙和氟化氢。与氟反应生成四氟化氙或六氟化氙。遇水则水解,过程很复杂。在日光直射下,氙与氟反应而制得。
  • 用途 制备一种二氟化氙气相刻蚀阻挡层,包括如下步骤:(1)将二氟化氙气体喷洒到裸露的阻挡层的表面;(2)采用光束仅照射电介质层上表面的阻挡层,使电介质层上表面的阻挡层的刻蚀速率高于沟槽和连接孔侧壁上的阻挡层的刻蚀速率。本发明通过向电介质层上表面的阻挡层照射光束,提高了电介质层上表面的阻挡层的刻蚀速率,使电介质层上表面的阻挡层的刻蚀速率高于沟槽和连接孔侧壁上的阻挡层的刻蚀速率,避免沟槽和连接孔侧壁上的阻挡层过度刻蚀,提高了微观上的刻蚀均匀性,达到了更好的工艺效果。
四氟化氙上下游产品信息
上游原料
下游产品
四氟化氙生产厂家
  • 公司名称:郑州汇聚化工有限公司
  • 联系电话:0371-55900031 18137872243
  • 电子邮件:2853979815@qq.com
  • 国家:中国
  • 产品数:10018
  • 优势度:55
  • 公司名称:CD Chemical Group Limited
  • 联系电话: +8615986615575
  • 电子邮件:info@codchem.com
  • 国家:中国
  • 产品数:20356
  • 优势度:58
  • 公司名称:河南科锐化工有限公司
  • 联系电话:+86-0371-86658258 15093356674;
  • 电子邮件:laboratory@coreychem.com
  • 国家:中国
  • 产品数:30255
  • 优势度:58
  • 公司名称:武汉易司拓普科技有限公司
  • 联系电话:027-027-87382885 18086641195
  • 电子邮件:service@isotopechina.com
  • 国家:中国
  • 产品数:155
  • 优势度:58
  • 公司名称:陕西缔都新材料有限公司
  • 联系电话:029-63373950 15353716720
  • 电子邮件:1052@dideu.com
  • 国家:中国
  • 产品数:10009
  • 优势度:58
  • 公司名称:湖北拓邦化工有限公司
  • 联系电话:027-59106185 13986181695
  • 电子邮件:1466039@qq.com
  • 国家:中国
  • 产品数:9997
  • 优势度:58
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